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疫情下的中芯面臨更多機會 將肩負(fù)追趕國際廠商的重任

半導(dǎo)體動態(tài) ? 來源:Ai芯天下 ? 作者:Ai芯天下 ? 2020-03-16 15:16 ? 次閱讀

前言:

由于長期遭到歐美國家的封鎖,我國處在“缺芯少魂”的窘境中,但我們并沒有因此而放棄。

“落后就得挨打”適用于芯片行業(yè)

芯片對于全球各大科技企業(yè)來說,都是非常難以突破的,所以集成電路產(chǎn)業(yè)成為了全球技術(shù)壁壘最高的制造工藝產(chǎn)業(yè)之一。

然而我國在芯片領(lǐng)域相對來說是比較落后的,僅僅是進口芯片,每年都要花費3000億美元。

但是和世界最先進的水平來比較,差距可不是一小截的事情了,造成這種差異的主要原因就是,芯片制造投了錢,但是沒有人才研發(fā),國外芯片對于中國也是小心翼翼。

目前,在半導(dǎo)體芯片方面,國內(nèi)企業(yè)根本沒有話語權(quán):

電腦芯片方面,英特爾是老大;

手機芯片方面,高通則摘得桂冠;

在生產(chǎn)工藝方面,臺積電在芯片的工藝技術(shù)上領(lǐng)先;

而在國內(nèi)企業(yè)中,目前仿佛只有華為和中芯國際在芯片方面被人熟知。

從表面來看,美國對中國高科技產(chǎn)業(yè)的打壓,是一種不公平競爭的現(xiàn)象,然而從實質(zhì)來看,卻倒逼了華為、倒逼了中國眾多產(chǎn)業(yè)的集體爆發(fā)。

N+1、N+2代工藝相繼推出

在中芯國際去年Q4財季的財報會議上,其N+1、N+2代工藝的情況公開,N+1工藝相當(dāng)于臺積電的第一代7nm工藝,N+2相當(dāng)于臺積電的7nm+工藝。

7nm作為14nm工藝的繼承者,性能提高了20%,功耗降低了57%,其晶體管密度是14nm工藝的兩倍以上。

在中芯國際的努力下,其研發(fā)的N+1和N+2工藝,已經(jīng)彌補了沒有EUV光刻機的不足。

中芯國際的N+1在2019年第四季進入NTO階段,目前正處于客戶產(chǎn)品認(rèn)證期,預(yù)計2020年第四季可以看到小量產(chǎn)出。

需要注意的是,中芯國際的N+1并非是7nm,而更像10nm。從參數(shù)上來看,N+1只是相比自家的14nm性能提升了20%,遠(yuǎn)低于臺積電從16nm到7nm性能計劃提升的30%,而實際上臺積電的工藝迭代性能提升了35%。

此外,從晶體管密度來看,仍然以臺積電為例,10nm密度為16nm的1.8倍,提升至7nm密度則達到了3.3倍左右。可以認(rèn)為,中芯國際的N+1更像是三星的第二代10nm或者第三代10nm。

投入了大量資金購置設(shè)備

2月19日,中芯國際披露了公司在2019年3月12日至2020年2月17日的12個月期間,就機器及設(shè)備向泛林團體發(fā)出一系列購買單,花費6.01億美元,產(chǎn)品包括由蝕刻工具組成的資本設(shè)備。

3月2日,中芯國際應(yīng)用材料集團發(fā)出一系列購買單,總代價為5.43億美元,向東京電子集團發(fā)出一系列購買單,總代價為5.51億美元。

3月4日,中芯國際從荷蘭進口的大型光刻機進入口岸,對于此次進入新設(shè)備,中芯國際表示這是設(shè)備正常導(dǎo)入,用于產(chǎn)能擴充,并非外界所稱的EUV光刻機,中芯國際的生產(chǎn)線擴容后全年預(yù)計可為企業(yè)增加10%左右的營收。

中芯國際從荷蘭ASML訂購的其中一臺光刻機運抵深圳,該臺光刻機為沉浸式DUV光刻機,并非EUV深紫外光刻機。介于目前中芯國際芯片工藝的研發(fā)進度,DUV光刻機已經(jīng)能夠滿足國內(nèi)芯片需求。

而本次搬入的機臺將在大約5個月后投入生產(chǎn),擴產(chǎn)完成后深圳廠區(qū)8寸產(chǎn)能有望達到60kwpm,屆時將為中芯國際深圳廠區(qū)增加約10%的營收。

華為向中芯國際下單扶持

國內(nèi)各行各業(yè)的快速發(fā)展,也帶動了半導(dǎo)體市場需求逐步擴大,根據(jù)相關(guān)數(shù)據(jù)顯示,目前在全球半導(dǎo)體的市場份額方面,國內(nèi)市場占據(jù)了三分之一之多。

然而,這么龐大的市場需求,卻沒有帶動國內(nèi)高端半導(dǎo)體芯片研發(fā)與生產(chǎn)技術(shù)的快速發(fā)展,更多的還是中低端的水平。

如此大手筆的采購生產(chǎn)設(shè)備,為的就是盡快滿足華為海思的訂單需求。中芯國際預(yù)計在今年年底,14nm芯片的產(chǎn)能將會是目前的三到五倍,最多能夠達到15000片/月。

在這樣的利好消息下,一直飽受芯片困擾的華為自然不會錯失良機,據(jù)悉目前其旗下的海思半導(dǎo)體公司已經(jīng)開始向中芯國際14nm工藝正式下單。

2019年12月,中芯國際正式宣布了14nm的量產(chǎn),兩大科技巨頭強強聯(lián)手,中芯國際成為華為14nm工藝芯片堅實的后盾。

這樣一來,即便美國禁令再次升級,但中芯國際的生產(chǎn)能力已經(jīng)能夠滿足華為目前的需求。

而更讓華為喜上加喜的是,中芯國際已經(jīng)決定在不久后將要再次訂購全球最先進的7nmEUV光刻機,這樣一來其實現(xiàn)7nm芯片工藝的投產(chǎn),也只是時間上的問題了。

不論是之前的6億美元,還是現(xiàn)在的11億美元,從中芯國際的表態(tài)來看,他們持續(xù)采購設(shè)備的目的就是“繼續(xù)擴大產(chǎn)能”,目前中芯國際急迫的產(chǎn)能除了8英寸之外就是14nm這樣的先進工藝。

有了華為海思的扶持,中芯國際開始加速擴充14納米工藝的產(chǎn)能。中芯國際接連從三大半導(dǎo)體設(shè)備巨頭采購生產(chǎn)設(shè)備。

疫情下的中芯機會

隨著時間的推移,中芯國際的機會似乎也是來臨了,如今歐美等地區(qū)正在爆發(fā)新冠病毒的疫情,但并沒有很好的應(yīng)對辦法。

而在這些疫情高發(fā)的歐美國家中恰有荷蘭,如果后期荷蘭疫情無法得到有效控制,尋求我國幫助的話,無疑會拉進兩國關(guān)系,屆時荷蘭對于ASML出口高精度光刻機的限制說不得就會松動。

而一旦能夠獲取ASML的7nm制程光刻機,就算后期美國新的封鎖行動審議通過,華為遭遇的新一輪危機或許也有機會安全度過,畢竟只要ASML的高精度光刻機到位,中芯國際能夠迅速開辟出新的產(chǎn)線幫助華為度過美國的加強版封鎖行動。

需求端:受到國產(chǎn)轉(zhuǎn)單、5G手機備貨的影響,預(yù)計2020下半年CIS、PMIC、指紋IC、藍(lán)牙IC等產(chǎn)品仍需求強勁,助力公司在擴產(chǎn)情況下產(chǎn)能利用率達到“傳統(tǒng)旺季”水平。

供給端:光刻機通常是產(chǎn)線中的產(chǎn)出瓶頸設(shè)備,光刻機的投入生產(chǎn)預(yù)計將有效提高產(chǎn)線產(chǎn)能。下半年擴產(chǎn)帶來的收入增長值得期待。

原本ADSL的EUV極紫外光刻機到貨后,中芯國際將會率先進入7nm光刻芯片的研發(fā),但是現(xiàn)在只能再次延后7nm光刻芯片的研發(fā)。

結(jié)尾:

一直以來,中國半導(dǎo)體行業(yè)都是整體工業(yè)的短板,而中芯國際被認(rèn)為是中國晶圓制程工藝的領(lǐng)頭羊,肩負(fù)著追趕國際廠商的重任。
責(zé)任編輯:wv

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