昨(20)日,三星電子副會長李在镕視察了該公司首條基于極紫外光刻(EUV)技術(shù)的晶圓生產(chǎn)線V1。期間,李在镕再次明確,將在2030年使三星電子成為邏輯芯片領(lǐng)域的世界第一。
據(jù)BusinessKorea報道,三星電子指出,李在镕在昨日參觀了該工廠的EUV生產(chǎn)線后,與DS業(yè)務(wù)部門的總裁進行了實地會晤。三星設(shè)備解決方案部門(DS)包括半導(dǎo)體和顯示器兩大重要產(chǎn)品線,此次會晤似乎也顯示出李在镕勢在必得的決心。
據(jù)了解,V1產(chǎn)線于2018年2月動工,投資約60億美元,若未來全線建成,預(yù)計總投資將達到20萬億韓元。
“V1包含了紫外光線(Ultra Violet)和勝利(Victory)的意思,”三星電子的一位高管稱?!拔覀冇媱澑鶕?jù)未來的市場情況對V1線進行額外投資。”
與此同時,三星電子判斷,掌握EUV工藝對于緊跟臺積電至關(guān)重要。因為利用短波紫外線光源在晶圓上雕刻半導(dǎo)體電路,與ArF方法相比,先進的工藝可以制造出更精細的電路,適用于10納米以下的超精細工藝,是制備高性能、低功耗半導(dǎo)體的關(guān)鍵。
在三星電子該條V1產(chǎn)線上,除了生產(chǎn)7納米芯片外,還將生產(chǎn)5納米和3納米半導(dǎo)體。據(jù)悉,從2月初開始量產(chǎn)的7納米產(chǎn)品將于3月份交付全球客戶。
李在镕當(dāng)天還對員工們表示,“去年,我們播下了成為系統(tǒng)半導(dǎo)體龍頭的目標(biāo)的種子,而今天,我們率先實現(xiàn)了這一目標(biāo)?!?/p>
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