0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

先投2800萬美元,美國杜邦擬在韓國生產(chǎn)光刻膠

汽車玩家 ? 來源:TechWeb ? 作者:宋星 ? 2020-01-10 15:46 ? 次閱讀

1 月 10 日消息,據(jù)國外媒體報道,美國化工巨頭杜邦日前宣布,擬在韓國生產(chǎn)半導(dǎo)體材料光刻膠。

杜邦將擴建位于韓國中部天安市的現(xiàn)有工廠,生產(chǎn)涂覆在半導(dǎo)體基板上的感光劑“光刻膠”。

杜邦計劃首先投入 2800 萬美元,確立量產(chǎn)技術(shù),最早于 2021 年啟動量產(chǎn)投資。該公司將根據(jù)客戶的訂貨量提高產(chǎn)能。

韓國官員去年曾表示,韓國政府計劃借日本對韓國出口限制,進一步加強國內(nèi)半導(dǎo)體研發(fā)競爭力。吸引外資企業(yè)在韓國投資也是措施之一。

杜邦是一家化工巨頭,成立于 1802 年。2015 年,陶氏化學(xué)和杜邦美國宣布合并,新公司成為全球僅次于巴斯夫的第二大化工企業(yè)。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 半導(dǎo)體
    +關(guān)注

    關(guān)注

    334

    文章

    27626

    瀏覽量

    221113
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    321

    瀏覽量

    30302
收藏 人收藏

    評論

    相關(guān)推薦

    光刻膠清洗去除方法

    光刻膠作為掩模進行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 17:06 ?645次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>清洗去除方法

    一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠

    共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領(lǐng)取公眾號資料
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?1093次閱讀

    光刻膠的使用過程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?490次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠?

    在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘臺或者烤設(shè)備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3次。本文簡要介紹SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?358次閱讀

    導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些?

    存儲時間 正和圖形反轉(zhuǎn)在存儲數(shù)月后會變暗,而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見光譜的部分具有很強的吸收能力,對紫外靈敏度沒有任何影響。這種變色過程
    的頭像 發(fā)表于 07-11 16:07 ?647次閱讀

    光刻膠涂覆工藝—旋涂

    為了確保光刻工藝的可重復(fù)性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據(jù)工藝要求,有許多工藝可用于涂覆光刻膠。 旋涂是用
    的頭像 發(fā)表于 07-11 15:46 ?844次閱讀

    光刻膠的硬烘烤技術(shù)

    根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結(jié)構(gòu)進行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現(xiàn)整個光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱為硬烘烤或者堅膜?;蛲ㄟ^低劑量紫外線輻照
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:46 ?1029次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的硬烘烤技術(shù)

    光刻膠的一般特性介紹

    評價一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標(biāo)。光刻膠的靈敏度越高,所
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:43 ?782次閱讀

    光刻膠后烘技術(shù)

    后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進行。前面的文章中我們在
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:08 ?1574次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>后烘技術(shù)

    光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝

    圖形反轉(zhuǎn)是比較常見的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正使用又可以作為負使用。相比而言,負工藝更被人們所熟知。本文重點介紹其負
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:06 ?732次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的圖形反轉(zhuǎn)工藝

    光刻膠的保存和老化失效

    我們在使用光刻膠的時候往往關(guān)注的重點是光刻膠的性能,但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題,其實這個問題應(yīng)該在我們購買光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并且,在
    的頭像 發(fā)表于 07-08 14:57 ?1172次閱讀

    關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹

    與正光刻膠相比,電子束負光刻膠會形成相反的圖案。基于聚合物的負型光刻膠會在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 03-20 11:36 ?2691次閱讀
    關(guān)于<b class='flag-5'>光刻膠</b>的關(guān)鍵參數(shù)介紹

    光刻膠光刻機的區(qū)別

    光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?4858次閱讀

    如何在芯片中減少光刻膠的使用量

    光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來定。比如對于需要長時間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場景,較厚的光刻膠層能提供更長的耐蝕刻時間。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 10:49 ?748次閱讀
    如何在芯片中減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>的使用量

    瑞紅集成電路高端光刻膠總部落戶吳中

    據(jù)吳中發(fā)布的最新消息,簽約項目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項目,該項投資高達15億元,旨在新建半導(dǎo)體光刻膠及其配套試劑的生產(chǎn)基地。
    的頭像 發(fā)表于 01-26 09:18 ?572次閱讀