日本和韓國政府之間關(guān)系開始解凍,前者宣布已部分取消了對韓國光刻膠出口的限制。日本公司已獲得許可,可以向LG,三星和SK Hynix等公司提供價(jià)值為三年的光致抗蝕劑,而不必為每次裝運(yùn)獲得批準(zhǔn)。但是,并沒有消除所有限制,從日本向韓國出口的氟化聚酰亞胺和高純度氟化氫仍受到限制。
日本政府于今年初對向韓國出口的三種工業(yè)化學(xué)品實(shí)施了限制。從7月初開始,日本制造商在運(yùn)輸氟化聚酰亞胺(用于LCD和OLED),光致抗蝕劑和高純度氟化氫(用于制造芯片,例如LSI,DRAM和NAND器件)時(shí),必須獲得單獨(dú)出口的批準(zhǔn)。由于日本公司提供的這些化學(xué)品占全球的70%-90%,因此LG,三星和SK Hynix等韓國公司沒有其他實(shí)際選擇。因此,貿(mào)易限制無疑使韓國和日本公司的生活更加艱難,盡管目前尚不清楚禁運(yùn)政策對韓國高科技產(chǎn)業(yè)造成了多大傷害。
據(jù)悉,該項(xiàng)政策是在兩國領(lǐng)導(dǎo)人會晤前發(fā)布的。
然而,與此同時(shí),這只是恢復(fù)兩國之間正常貿(mào)易關(guān)系的第一步。韓國及其高科技制造商仍受到對氟化聚酰亞胺和高純度氟化氫的出口限制,因?yàn)檫@些規(guī)定仍然存在。韓國當(dāng)局仍在尋求消除其余限制。
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
相關(guān)推薦
光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時(shí)的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
發(fā)表于 11-11 17:06
?567次閱讀
光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán),而光刻膠,又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展,對微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng),光刻膠
發(fā)表于 11-11 10:08
?505次閱讀
共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領(lǐng)取公眾號資料
發(fā)表于 11-01 11:08
?909次閱讀
本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
發(fā)表于 10-31 15:59
?429次閱讀
在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘膠臺或者烤膠設(shè)備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進(jìn)行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進(jìn)行2-3次。本文簡要介紹SU-8
發(fā)表于 08-27 15:54
?310次閱讀
存儲時(shí)間 正膠和圖形反轉(zhuǎn)膠在存儲數(shù)月后會變暗,而且隨著儲存溫度升高而加速。因?yàn)樵擃愋?b class='flag-5'>光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見光譜的部分具有很強(qiáng)的吸收能力,對紫外靈敏度沒有任何影響
發(fā)表于 07-11 16:07
?608次閱讀
根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實(shí)現(xiàn)整個(gè)光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱為硬烘烤或者堅(jiān)膜?;蛲ㄟ^低劑量紫外線輻照
發(fā)表于 07-10 13:46
?962次閱讀
評價(jià)一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標(biāo)。光刻膠的靈敏度越高,所
發(fā)表于 07-10 13:43
?724次閱讀
后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進(jìn)行。前面的文章中我們在
發(fā)表于 07-09 16:08
?1486次閱讀
圖形反轉(zhuǎn)膠是比較常見的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正膠使用又可以作為負(fù)膠使用。相比而言,負(fù)膠工藝更被人們所熟知。本文重點(diǎn)介紹其負(fù)
發(fā)表于 07-09 16:06
?680次閱讀
我們在使用光刻膠的時(shí)候往往關(guān)注的重點(diǎn)是光刻膠的性能,但是有時(shí)候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題,其實(shí)這個(gè)問題應(yīng)該在我們購買光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并且,在
發(fā)表于 07-08 14:57
?1069次閱讀
光刻膠按照種類可以分為正性的、負(fù)性的。正膠受到紫外光照射的部分在顯影時(shí)被去除,負(fù)膠受到紫外光曝光的地方在顯影后被留下。
發(fā)表于 04-24 11:37
?3004次閱讀
與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會形成相反的圖案?;诰酆衔锏呢?fù)型光刻膠會在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠
發(fā)表于 03-20 11:36
?2643次閱讀
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
發(fā)表于 03-04 17:19
?4792次閱讀
光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來定。比如對于需要長時(shí)間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場景,較厚的光刻膠層能提供更長的耐蝕刻時(shí)間。
發(fā)表于 03-04 10:49
?721次閱讀
評論