0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

日本首次批準(zhǔn)了向韓國(guó)出口EUV光刻膠

cMdW_icsmart ? 來(lái)源:芯智訊 ? 2019-12-09 13:56 ? 次閱讀

自今年7月4日,日本正式對(duì)韓國(guó)限制光刻膠、氟化聚酰亞胺和高純度氟化氫等關(guān)鍵材料對(duì)韓國(guó)的出口之后,目前已經(jīng)過(guò)去了一個(gè)多月的時(shí)間。按照規(guī)定,韓國(guó)進(jìn)口日本這三種原料需要提前90天申請(qǐng)。也就是說(shuō),按照流程,韓國(guó)企業(yè)可能還需要兩個(gè)月的時(shí)間才能夠有可能獲得日本的供應(yīng)。

不過(guò),近日據(jù)外媒報(bào)道稱,日本近期首次批準(zhǔn)了向韓國(guó)出口EUV光刻膠。但是,日本針對(duì)韓國(guó)的出口限制仍未改變。目前尚不清楚三星、SK海力士等韓國(guó)芯片大廠是否已經(jīng)從日本獲得了部分EUV光刻膠的供應(yīng)。

不過(guò),據(jù)報(bào)道,三星近日從歐洲獲得了EUV光刻膠的供應(yīng),據(jù)悉三星從比利時(shí)一家公司獲得了穩(wěn)定的光刻膠供應(yīng),可以使用6到10個(gè)月。

盡管三星方面沒(méi)有透露具體的公司名字,但出售EUV光刻膠的應(yīng)該是日本JSR公司與比利時(shí)微電子中心IMEC合作成立的公司,2016年成立,主要由JSR比利時(shí)比利時(shí)子公司持股。

資料顯示,目前日本的JSR、東京應(yīng)化、日本信越與富士電子材料占據(jù)了全球光刻膠市場(chǎng)72%的市場(chǎng)份額,其中JSR一家就占據(jù)了全球28%的光刻膠市場(chǎng)。值得一提的是,JSR也是含氟聚酰亞胺的重要供應(yīng)商。

當(dāng)然,三星在這方面依然是利用了日本政策的漏洞——日本的政策限制只針對(duì)日本國(guó)土上的公司,日本廠商的海外公司對(duì)韓國(guó)出售產(chǎn)品是不受限制的。

從另一個(gè)角度來(lái)說(shuō),日本制定這樣的政策限制對(duì)本國(guó)企業(yè)并不是什么好事,不僅影響本土銷售,還會(huì)迫使這些公司加速向海外轉(zhuǎn)移以繞過(guò)政策限制,畢竟韓國(guó)公司一年進(jìn)口的半導(dǎo)體材料價(jià)值50億美元。

值得一提的的是,8月9日消息,據(jù)日本經(jīng)濟(jì)新聞報(bào)導(dǎo),專注于氟材料長(zhǎng)達(dá)一個(gè)世紀(jì)的森田化學(xué)近期也受到了日本對(duì)韓出口限貿(mào)管制的影響。社長(zhǎng)森田康夫表示,由于強(qiáng)化出口管理,日本企業(yè)(面向韓國(guó)的高純度氟化氫出口)的份額有可能下降,森田化學(xué)將在中國(guó)工廠啟動(dòng)高純度氟化氫生產(chǎn)以便向韓國(guó)供貨。

資料顯示,森田化學(xué)所指的中國(guó)浙江的這家工廠全稱是浙江森田新材料有限公司,于2003年11月28日成立,位于浙江省金華市武義縣青年胡處工業(yè)區(qū),該廠年生產(chǎn)20,000噸的無(wú)水氟化氫。由森田化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社、浙江三美化工股份有限公司共同出資成立,雙方占比各50%。

森田康夫表示,在看到半導(dǎo)體生產(chǎn)從韓國(guó)向中國(guó)轉(zhuǎn)移的趨勢(shì)后,森田化學(xué)兩年前便開(kāi)始推進(jìn)這一計(jì)劃。2019年內(nèi)將在中國(guó)浙江省的工廠啟動(dòng)高純度氟化氫生產(chǎn)。

除了三星之外,韓國(guó)的SK海力士、LGD等公司也在積極的尋找日本供應(yīng)商的海外工廠以及日本之外的相關(guān)材料供應(yīng)。

此外,為應(yīng)對(duì)日本制裁,韓國(guó)政府此前也宣布了巨額投資計(jì)劃,將在未來(lái)7年里投資7.8萬(wàn)億韓元(約合65億美元或者449億人民幣)研發(fā)國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體材料及裝備,減少對(duì)日本的依賴。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 三星電子
    +關(guān)注

    關(guān)注

    34

    文章

    15868

    瀏覽量

    181164
  • EUV
    EUV
    +關(guān)注

    關(guān)注

    8

    文章

    607

    瀏覽量

    86095
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    321

    瀏覽量

    30302

原文標(biāo)題:傳三星從比利時(shí)獲得EUV光刻膠

文章出處:【微信號(hào):icsmart,微信公眾號(hào):芯智訊】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

    光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹脂決定光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能,增感劑有助于提高
    的頭像 發(fā)表于 12-19 13:57 ?275次閱讀

    光刻膠清洗去除方法

    光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時(shí)的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會(huì)導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 17:06 ?645次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>清洗去除方法

    一文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見(jiàn)光刻膠

    共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號(hào)也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號(hào)資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識(shí)星球,領(lǐng)取公眾號(hào)資料
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?1093次閱讀

    光刻膠的使用過(guò)程與原理

    本文介紹光刻膠的使用過(guò)程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?490次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠?

    在微流控PDMS芯片加工的過(guò)程中,需要使用烘臺(tái)或者烤設(shè)備對(duì)SU-8光刻膠或PDMS聚合物進(jìn)行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進(jìn)行2-3次。本文簡(jiǎn)要介紹SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?358次閱讀

    日企大力投資光刻膠等關(guān)鍵EUV材料

    市場(chǎng)對(duì)需要EUV光刻系統(tǒng)的先進(jìn)芯片的需求不斷增長(zhǎng),東京應(yīng)化、信越化學(xué)、三菱化學(xué)等日本公司正在增加投資并關(guān)注EUV關(guān)鍵技術(shù)所用材料的供應(yīng)。 東京應(yīng)化(TOK)正在福島縣建造一座全新的先進(jìn)
    的頭像 發(fā)表于 07-16 18:27 ?221次閱讀

    導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些?

    存儲(chǔ)時(shí)間 正和圖形反轉(zhuǎn)在存儲(chǔ)數(shù)月后會(huì)變暗,而且隨著儲(chǔ)存溫度升高而加速。因?yàn)樵擃愋?b class='flag-5'>光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見(jiàn)光譜的部分具有很強(qiáng)的吸收能力,對(duì)紫外靈敏度沒(méi)有任何影響。這種變色過(guò)程
    的頭像 發(fā)表于 07-11 16:07 ?647次閱讀

    光刻膠的硬烘烤技術(shù)

    根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽?duì)已顯影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來(lái)實(shí)現(xiàn)整個(gè)光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱為硬烘烤或者堅(jiān)膜。或通過(guò)低劑量紫外線輻照
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:46 ?1029次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的硬烘烤技術(shù)

    光刻膠的一般特性介紹

    評(píng)價(jià)一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標(biāo)。光刻膠的靈敏度越高,所
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:43 ?782次閱讀

    光刻膠后烘技術(shù)

    后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過(guò)程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說(shuō)還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進(jìn)行。前面的文章中我們?cè)?/div>
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:08 ?1574次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>后烘技術(shù)

    光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝

    圖形反轉(zhuǎn)是比較常見(jiàn)的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正使用又可以作為負(fù)使用。相比而言,負(fù)工藝更被人們所熟知。本文重點(diǎn)介紹其負(fù)
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:06 ?732次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的圖形反轉(zhuǎn)工藝

    光刻膠的保存和老化失效

    通常要考慮光刻膠是否過(guò)期失效。接下來(lái)我們將介紹一下光刻膠保存和老化失效的基礎(chǔ)知識(shí)。 光刻膠的保存 光刻膠對(duì)光敏感,在光照或高溫條件下其性能
    的頭像 發(fā)表于 07-08 14:57 ?1171次閱讀

    關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹

    與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會(huì)形成相反的圖案。基于聚合物的負(fù)型光刻膠會(huì)在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過(guò)程中溶解,而曝光的光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 03-20 11:36 ?2691次閱讀
    關(guān)于<b class='flag-5'>光刻膠</b>的關(guān)鍵參數(shù)介紹

    光刻膠光刻機(jī)的區(qū)別

    光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?4858次閱讀

    如何在芯片中減少光刻膠的使用量

    光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來(lái)定。比如對(duì)于需要長(zhǎng)時(shí)間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場(chǎng)景,較厚的光刻膠層能提供更長(zhǎng)的耐蝕刻時(shí)間。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 10:49 ?748次閱讀
    如何在芯片中減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>的使用量