2018年6月15-16日,第三屆MOS-AK器件模型國際會議(北京)順利閉幕。 本次會議由清華大學主辦,中國仿真協(xié)會集成微系統(tǒng)建模和仿真專委會、XMOD共同協(xié)辦。MOS-AK(北京)也得到了華大九天,Maury, Platform-Da, Cogenda, 杭州電子科技大學的贊助。本次為期二天的會議吸引了來自設計公司、半導體廠、EDA廠商、學校和研究所等科研單位人員來參加。 會議共包含了6篇邀請報告,14篇演講報告,給大家留下了深刻印象。MOS-AK(北京)的報告注重質量,而且產學研的路線貫徹到底,得到 了參會人員的好評。
中國仿真協(xié)會集成微系統(tǒng)建模與仿真專業(yè)委員會副主任委員、國際期刊Journal of Computational Electronics副主編、清華大學王燕教授致開幕詞,熱烈歡迎大家到來,提出了模型產業(yè)在半導體產業(yè)的重要性,并預祝本次活動圓滿成功。 接下來,XMOD作為協(xié)辦方介紹了本年度各地MOS-AK會議的安排,也回顧了前幾年的活動情況。另外,對于當前的模型產業(yè)細分的狀況,希望通過MOS-AK平臺互相交流,取長補短。
作為邀請報告部分,香港科技大學對于存儲器件的仿真和大規(guī)模產業(yè)應用給出了指導性的意見。德國Fraunhofer IAF和Ondosense的III-V族方面的報告,讓大家意識到,和歐洲先進工藝和技術相比,差距還是比較大的。清華大學帶來了Angelov模型方面的實戰(zhàn)應用,通過開發(fā)統(tǒng)一等效電路,解析公式以及創(chuàng)建的參數(shù)抽取方法獲得了測試和仿真非常匹配的結果,有很不錯的借鑒作用。 華大九大的OLED器件的模型介紹,讓大家意識到一個好的模型開發(fā),要經歷各種挑戰(zhàn)和瓶頸,需要不斷從工業(yè)界的反饋中把模型做的更接近實際結果。中科院半導體所的報告,從非?;A的第一性原理出發(fā),對新材料、新結構的器件做了前瞻的分析,給后續(xù)的研究、應用打好了基礎。Qorvo帶來的關于TCAD用于III-V器件仿真的報告,從器件的真實材料、結構以及物理現(xiàn)象出發(fā),對于TCAD可能的不一致性提出了自己的觀點。
此次活動,除了上述邀請報告,也吸引到了其他半導體廠,設計公司,EDA廠商,科院院所和學校的報告和文章。他們分別是Cadence、 Synopsys、 中科院微系統(tǒng)所、中科院微電子所、中國工程物理研究院、Cogenda,、Platform-Da、華中科技大學、西安電子科大、成都電子科大、杭州電子科大、澳大利亞Macquarie 大學、蘇州能訊、海威華芯、MOS-AK等(以上次序不分先后)。 在這里,特別要提到中科院下面的幾個研究所,分別作了非常基礎的研究,比如半導體所和微電子所,他們通過最基礎的物理,電子方程給國內模型產業(yè)發(fā)展提供了借鑒作用,對后續(xù)產業(yè)應用的模型開發(fā)起了非常好的輔助作用。微系統(tǒng)所在總劑量模型方面,介紹了總劑量模型軟件, 為宇航芯片研發(fā)提供了設計支持。中國工程物理研究院對70nm GaAs mHEMT 工藝,提出了自己的一套Design oriented Model 方法,使之能夠在220GHz 范圍內做到理想的匹配。這些經驗對應用和產業(yè)化,提供了很好的知識儲備。 當然,EDA廠商,半導體服務企業(yè),國內外的幾所大學的報告也同樣精彩,后續(xù)我們會在網站上和大家一起分享。
最后, 會議在MOS-AK 2019的主辦方成都電子科大的精彩介紹中順利閉幕,大家共同期待2019年成都再次相見。
開幕詞:
邀請報告(不分先后):
演講嘉賓(不分先后):
部分參與人員合影:
當然,MOS-AK會議前期的培訓部分也非常精彩,6月14日,Dr. Franz Sischka 的RF測試和建模一天課程,很多培訓者給了大大的贊,連贊助商的參展人員,也說,這么多干貨的培訓確實難得,對于明年再次贊助MOS-AK活動表達了強烈的意愿。
RF器件測量模型培訓(6月14日):
MOS-AK 北京器件模型國際會議結束后,我們會和演講者一起解讀幾篇有特色的報告給大家。對會議PPT感興趣的朋友,由于演講報告和最終報告有區(qū)別(有些報告需要刪除敏感內容),需要些時間,請耐心等待。
最后再次感謝本次MOS-AK活動的組織方和贊助方:
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