提到背照式CMOS,相信很多朋友首先會聯(lián)想到智能手機等小型影像記錄設(shè)備?,F(xiàn)在主流的手機的攝像頭均采用了背照式和堆棧式兩種類型的傳感器。
想要弄清楚背照式中“背”的含義,就必須要先了解傳統(tǒng)CMOS——前照式(FrontSide Illumination,縮寫為FSI)的結(jié)構(gòu)。
前照式CMOS
CMOS是一個多層結(jié)構(gòu)。在傳統(tǒng)FSI結(jié)構(gòu)中,自上至下依次為微透鏡(Micro-lens)、彩色濾光鏡(Color Filter)、電路層(Wiring Layers)和光電二極管(Photodiodes)。
不難發(fā)現(xiàn):CMOS總面積 ≈ 光電二極管有效面積 + 電路層有效面積,光電二極管和配套電路需要爭搶感光元件上有限的空間。
電路占據(jù)的面積大,光電二極管占據(jù)的面積就小,CMOS實際收集的光線就少。對于智能手機、便攜數(shù)碼相機等小型影像記錄設(shè)備來說,這就意味著成像質(zhì)量難以提升,最集中表現(xiàn)就是高ISO拍攝時的噪點大、雜訊多。
那么,能否減少電路面積呢?首先,現(xiàn)代CMOS普遍采用集成模數(shù)轉(zhuǎn)換電路(ADC)的做法,1列光電二極管對應(yīng)1個ADC和1套放大電路。想要提升像素數(shù)量、提高讀取速度就必須增加配套電路。
傳統(tǒng)的CMOS “前照式”結(jié)構(gòu),當(dāng)光線射入像素,經(jīng)過了片上透鏡和彩色濾光片后,先通過金屬排線層,最后光線才被光電二極管接收。
大家都知道金屬是不透光的,而且還會反光。所以,在金屬排線這層光線就會被部分阻擋和反射掉,光電二極管吸收的光線能就只有剛進(jìn)來的時候的70%或更少;而且這反射還有可能串?dāng)_旁邊的像素,導(dǎo)致顏色失真。(目前中低檔的CMOS排線層所用金屬是比較廉價的鋁(Al),鋁對整個可見光波段(380~780nm)基本保持90%左右的反射率。)
這樣一來,“背照式”CMOS就應(yīng)運而出了,其金屬排線層和光電二極管的位置和“前照式”正好顛倒,光線幾乎沒有阻擋和干擾地就下到光電二極管,光線利用率極高,所以背照式CMOS傳感器能更好的利用照射入的光線,在低照度環(huán)境下成像質(zhì)量也就更好了。
背照式CMOS
背照式CMOS英文為Back-Illuminated CMOS,縮寫為BI CMOS;或BackSide Illumination CMOS,縮寫為BSI CMOS。在背照式BSI結(jié)構(gòu)中,光電二極管和電路層的位置發(fā)生了調(diào)換,自上至下依次為微透鏡(Micro-lens)、彩色濾光鏡(Color Filter)、光電二極管(Photodiodes)和電路層(Wiring Layers)。
這帶來了兩個好處:
1.光電二極管可以接收到更多光線(開口率更大),使CMOS具有更高靈敏度和信噪比,改善高ISO下的成像質(zhì)量。
2.配套電路無需再和光電二極管爭搶面積,更大規(guī)模的電路有助于提高速度,實現(xiàn)超高速連拍、超高清短片拍攝等功能。
由于光電二極管層上移、卡口率更大,BSI CMOS可以更充分地吸收大角度入射光線。在使用傳統(tǒng)CMOS的A7R上,索尼通過微透鏡優(yōu)化提升邊緣質(zhì)量(芯片位置匹配技術(shù));而在使用BSI CMOS的A7R II上,索尼就不需要再做特殊優(yōu)化——當(dāng)然,如果加上微透鏡優(yōu)化自然是極好的,但改善幅度不會有傳統(tǒng)CMOS來的明顯。
當(dāng)然,任何事物都有兩面性,背照式CMOS也不例外。由于電路層變得密度更高,電路和電路之間不可避免地會產(chǎn)生干擾。其結(jié)果就是低感光度下的信噪比可能會有所下降。
相比起普通的傳感器,搭載背照式傳感器的攝像頭能夠在弱光環(huán)境下,提高約30%—50%的感光能力,能夠在弱光下拍攝更高的質(zhì)量的照片。
背照式CMOS的重要發(fā)展歷程
990年代,背照式概念被提出,但由于生產(chǎn)加工要求很高,因此無法實現(xiàn)量產(chǎn)化。
2007年,OmniVision對外展示了BSI CMOS樣品。
2009年2月,索尼實現(xiàn)BSI CMOS量產(chǎn)化并注冊了Exmor R商標(biāo)。首批搭載Exmor R CMOS的產(chǎn)品包括索尼HDR-XR520、HDR-XR500攝像機(2009-2),索尼DSC-WX1、DSC-TX1便攜數(shù)碼相機(2009-9),索尼愛立信Cyber-shot S006拍照手機(2010-10)。
2011年10月,蘋果iPhone 4S的主攝像頭搭載了索尼生產(chǎn)的BSI CMOS。
2013年6月,索尼推出搭載1英寸約2020萬像素BSI CMOS的數(shù)碼相機RX100 II。
2015年6月,索尼推出搭載搭載35mm全畫幅約4240萬像素BSI CMOS的無反相機A7RII。
背照式CMO的特點
新型背照式CMOS傳感器得益于電子器件的制作工藝升級,至少在兩個方面有提升。
第一個是在傳感器上的微透鏡性能更為提升,以致經(jīng)過微透鏡后的光,入射到感光面上的角度更接近垂直,而且微透鏡產(chǎn)生的色散,眩光等不良效果會減弱,讓最終到達(dá)傳感器感光面的光較傳統(tǒng)的好。
第二就是在大像素下依舊具有高速的處理能力,這一點歸根到底是對比CCD傳感器而言的。CCD傳感器是需要將各像素點的電荷數(shù)據(jù)傳輸出來統(tǒng)一處理,所以在像素大的時候速度比較難提高,如果強行提高處理的帶寬就會造成噪點的增加。而CMOS傳感器在每一個像素點上都已經(jīng)將電荷轉(zhuǎn)化成了電壓數(shù)據(jù),在提高大像素幀率上有比較大的空間。
不過這兩個優(yōu)點并非被照式CMOS傳感器特有,是當(dāng)今新款的CMOS傳感器普遍都能做到的,這就是為什么越來越多數(shù)碼相機采用CMOS傳感器了,畢竟大像素和高速的性能會直接影響最終消費者的選擇。
用上背照式CMOS傳感器畫質(zhì)就會好了嗎?
既然背照式CMOS傳感器這么厲害,是不是說配備了了它的數(shù)碼相機拍照就很牛了呢?其實不是,決定數(shù)碼照片的畫質(zhì)除了核心部件傳感器外,還有鏡頭以及處理算法等因素。鏡頭的因素大家應(yīng)該都容易理解,因為光線到達(dá)傳感器之前是要通過鏡頭。而各型號的相機使用的鏡頭不盡相同,具體的質(zhì)素也當(dāng)然會有差異。
另外一個就是數(shù)據(jù)處理的方面,因為從傳感器出來的數(shù)據(jù)還是要經(jīng)過數(shù)碼相機內(nèi)部的處理器來進(jìn)行處理才能得到最終的照片數(shù)據(jù)(能輸出RAW格式的相機除外),換句話說就是有了原始材料,還需要做潤色才能出成品。這部分就要看各個廠家的圖像處理算法了,這就好比不同廚師會用的烹調(diào)方法來處理食材一樣,最終的圖片就會用不同的質(zhì)量,不同的風(fēng)格。
對比裝備了背照式CMOS傳感器的相機和其他相機的各檔位ISO畫質(zhì),大體的結(jié)論是在低ISO的時候,兩者相差不大,但在高ISO時候的確有一定的提升。另外值得提及的一點就是,裝備了背照式CMOS傳感器的相機在低光環(huán)境的對焦能力大大加強,這是一個非常重要的提升。
另外,背照式如果要用在單反上,必須等壞點率進(jìn)一步降低才行。單反的cmos多大?小卡片機的cmos才有多大?如果采用背照式的技術(shù),單反cmos的良品率必然大大下降。成本可是誰也承擔(dān)不起的。
堆棧式CMOS
堆疊式CMOS最先出現(xiàn)在索尼推出的移動終端用CMOS上。堆疊式出現(xiàn)的初衷其實不是為了減少整個鏡頭模組的體積,這個只是其附帶好處而已。
CMOS的制作和CPU的制作類似,需要特殊的***對硅晶圓進(jìn)行蝕刻,形成像素區(qū)域(Pixel Section)和處理回路區(qū)域(Circuit Section)。像素區(qū)域就是種植像素的地方,而處理回路顧名思義,就是管理這一群像素的電路。
為了提高像素集合光的效率,需要引入光波導(dǎo)管。光波導(dǎo)管的干刻過程中,硅晶圓和像素區(qū)域會有損傷,此時則要進(jìn)行一個叫做“退火(annealing process)”的熱處理步驟,讓硅晶圓和像素區(qū)域從損傷中恢復(fù)回來,這時候需要將整塊CMOS加熱。好了,問題來了,這么一熱,同在一塊晶圓上的處理回路肯定有一定的損傷了,原先已經(jīng)“打造”好了的電容電阻值,經(jīng)過退火后肯定改變了,這種損傷必定會對電信號讀出有一定影響。
還有一個問題,索尼目前建有的移動終端用CMOS的制程是65納米干刻,這個65納米的工藝對于CMOS的像素區(qū)域的“種植”是完全足夠的。但是處理回路區(qū)域的“打造”,65納米是不夠的,如果能有30納米(實際提升至45nm制程)的工藝去打造電路,那么處理回路上的晶體管數(shù)量就幾乎翻番,其對像素區(qū)域的“調(diào)教”也就會有質(zhì)的飛躍,畫質(zhì)肯定相應(yīng)變好。但因為是在同一塊晶圓上制作,像素和回路區(qū)域需要在同一個制程下制作。
如此魚和熊掌不可兼得的事情,假如解決了多好!于是索尼的工程師打起了晶圓的基板的主意。
先來看這張結(jié)構(gòu)圖。原來處理回路是和像素區(qū)域在同一塊晶圓上打造的。
那么不妨把處理回路放到其它地方去。首先利用SOI和基板的熱傳導(dǎo)系數(shù)差異,通過加熱將兩者分開。像素區(qū)域放到65納米制程的機器上做,處理回路則放到制程更高(45nm)的機器上做。然后在拼在一起,堆棧式CMOS也就這樣誕生了。
上邊遇到的兩個問題:①像素“退火”時回路區(qū)域躺著中槍;②在同一塊晶圓上制作時的制程限制;均迎刃而解了。
堆疊式不僅繼承了背照式的優(yōu)點(像素區(qū)域依然是背照式),還克服了其在制作上的限制與缺陷。由于處理回路的改善和進(jìn)步,攝像頭也將能提供更多的功能,比如說硬件HDR,慢動作拍攝等等。
像素與處理回路分家的同時,攝像頭的體積也會變得更小,但功能和性能卻不減,反而更佳。像素區(qū)域(CMOS的尺寸)可以相應(yīng)地增大,用來種植更多或者更大的像素。處理回路也會的到相應(yīng)的優(yōu)化。
堆棧式CMOS使用有信號處理電路的芯片代替感光組件的電路部分及支持基板,使得設(shè)備有極大的空間,在此形成更多的像素部分,同時采用堆棧的方式使像素部分和電路芯片重疊,堆棧的兩層相互依賴,像素層與模擬邏輯芯片無需再互搶所占空間,兩者相互獨立,可單獨提高像素質(zhì)量及電路性能。
堆棧式CMOS的優(yōu)點
堆棧式傳感器是由背照式所發(fā)展而成的,背照式傳感器是將感光層的光電二極管的位置換了一下,而堆棧式傳感器則是把信號回路位置互換。而且,堆棧式傳感器比背照式的的體積更加小,畫質(zhì)方面也是作了更加好的優(yōu)化。
除此之外,堆棧式傳感器相比起背照式的還擁有兩項技術(shù)來提升畫質(zhì)的。
第一個就是堆棧式傳感器加入了RGBW的編碼技術(shù),就是是由原來的R(紅),G(綠),B(藍(lán))三原色像素點中再加入W(白)像素點來提升畫質(zhì),提高傳感器的感光能力的,使攝像頭在暗光環(huán)境下也能夠拍攝出質(zhì)量更高的照片。
第二項就是堆棧式傳感器更加是支持硬件HDR功能,硬件HDR英文名稱叫做“In-camera HDR”,它實現(xiàn)的原理是能夠精確地單獨控制每一行像素的曝光時間,從而在傳感器層面上就實現(xiàn)原生的高動態(tài)范圍渲染,有別于之前的軟件HDR技術(shù)一樣需要軟件,照相機綜合算法來合成,所以照片生成的速度更快,而且可以實現(xiàn)HDR錄像。
從以上的介紹可以看出,堆棧式傳感器是從背照式傳感器進(jìn)化提升而來的產(chǎn)品,也是由背照式的基礎(chǔ)上發(fā)展而來的,堆棧式傳感器吸取了背照式的優(yōu)勢地方,再彌補了其劣勢的地方,進(jìn)行了更加全面的優(yōu)化升級。除此之外,堆棧式傳感器還可以兼顧背照式結(jié)構(gòu)的設(shè)計,使到攝像頭的拍攝畫質(zhì)有了很大的提高。
所以到現(xiàn)在,越來越多的手機生產(chǎn)廠商推出的手機的攝像頭采用了堆棧式傳感器,憑借更優(yōu)秀的表現(xiàn),堆棧式傳感器將會成為日后手機攝像頭的主流。
編輯:黃飛
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