中村開發(fā)高亮度藍光LED全過程詳細(xì)介紹
20世紀(jì)90年代中期使得超過人類身高的超大屏幕全彩顯示器成為可能、2000年前后又為手機屏幕彩色化做出貢獻的,就是高亮度藍色發(fā)光二極管.藍色發(fā)光二極管技術(shù)還成為了開發(fā)藍色激光器的基礎(chǔ),其實用化使得錄制高清節(jié)目的藍光成為現(xiàn)實.高亮度藍色LED通過與紅色和綠色LED組合便可制造出各種顏色,接踵而來的便是促生出取代白熾燈和熒光燈的新一代節(jié)能照明巨大市場.
日本的企業(yè)及大學(xué)為開發(fā)高亮度藍色LED做出了巨大貢獻.在GaNLED的研究階段,名古屋大學(xué)赤崎勇教授(現(xiàn)為名城大學(xué)特聘教授)領(lǐng)導(dǎo)的研究小組取得了出色的成果.在之后的實用化及高亮度化階段,日亞化學(xué)工業(yè)的中村修二(現(xiàn)為美國加州大學(xué)圣塔芭芭拉分校教授)發(fā)揮了重要作用.1995年1~3月《日經(jīng)電子》連續(xù)報道了中村從GaN類藍色LED的研究開始到產(chǎn)品化為止的故事,此次本站將刊登該系列報道,希望能向讀者展現(xiàn)在該技術(shù)開發(fā)過程中,技術(shù)人員的艱辛與快樂.
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日亞總部內(nèi)的藍色發(fā)光二極管顯示器展示區(qū),站在左側(cè)的就是開發(fā)成功藍光發(fā)光二極管的中村修二.
中村在進入該公司后一直在開發(fā)金屬Ga、InP、GaAs、GaAlAs等單結(jié)晶材料及多結(jié)晶材料.為了節(jié)約經(jīng)費,從設(shè)備到部件加工的整個過程均由中村一人完成.雖然開發(fā)最終取得成功,并順利啟動了業(yè)務(wù),但產(chǎn)品卻賣不出去.焦急之下,中村選擇了藍色發(fā)光二極管作為下一研究課題,而這是一種只要能業(yè)務(wù)化必定會暢銷的產(chǎn)品.
總部位于日本德島縣阿南市的日亞化學(xué)工業(yè)(以下簡稱日亞,注1)是當(dāng)?shù)仡H為有名的公司.因為該公司有長達三周的夏季休假制度.員工將這一長假全部用到了阿波舞的練習(xí)上.而且到阿波舞演出正式舉行時,該公司還會派出員工組成的"日亞方陣"跳上大街.
注1)日亞化學(xué)工業(yè)是總部位于日本德島縣阿南市的化學(xué)品廠商.員工數(shù)量在1994年4月為640名,銷售額在1993年1月~1993年12月為167億日元.主要產(chǎn)品為CRT及熒光燈等使用的熒光體材料,占銷售額的8成~9成.此外還制造化合物半導(dǎo)體材料、真空蒸鍍材料、濺射靶材以及液晶面板背照燈等使用的EL(場致發(fā)光)燈等.公司成立于1956年12月.在中村1979年進入公司時,銷售額約為40億日元,員工數(shù)量約為200名.
日亞化學(xué)工業(yè)在阿南的總部
日亞在一舉成為全球聞名的公司是在1993年底(表1).這源于該公司開發(fā)出了亮度達到1cd的藍光發(fā)光二極管,并成功實施量產(chǎn).曾一度被公認(rèn)"要到21世紀(jì)才能實現(xiàn)"的高亮度藍色發(fā)光二極管由此順利地進入了實用期 注2).
注2)日本電子機械工業(yè)會(EIAJ)電子顯示器和電子管業(yè)務(wù)委員會電子顯示器2000年研究會在1993年7月公布的《電子顯示器產(chǎn)業(yè)2000年前景調(diào)查研究報告》中曾這樣描述:"在可視LED中,藍光LED被公認(rèn)為最難實現(xiàn)高亮度化的產(chǎn)品,而且實際的開發(fā)進展也頗為緩慢,為了在2000年達到1cd,業(yè)界幾乎找遍了一切可能性".
表1藍色發(fā)光二極管的開發(fā)年表
對于日亞的壯舉,該領(lǐng)域的技術(shù)人員及研究人員與全世界一樣感到震驚.而更驚奇的是,實現(xiàn)如此壯舉的,并非在該領(lǐng)域長期從事研究的海內(nèi)外知名大學(xué),也非大型電子廠商,而是一家地方城市的化學(xué)廠商.由此,日亞的稱呼從"夏季休假的日亞"變成了"藍光發(fā)光二極管的日亞".
為了孩子選擇回鄉(xiāng)
幾乎全靠一己之力開發(fā)成功高亮度藍色發(fā)光二極管的是當(dāng)年40歲的研究人員中村修二(圖1).中村1979年從德島大學(xué)研究生院畢業(yè)后進入日亞.專業(yè)是電子工程學(xué).
學(xué)生時代,中村當(dāng)然向往到東京或大阪等大城市工作.但到了畢業(yè)參加工作時,中村卻已經(jīng)有了孩子.他在上大學(xué)時就結(jié)婚了.
"單身的話,可以留在城市闖一闖.但有了孩子的話,還是到鄉(xiāng)下生活的好.不想因為工作而犧牲家庭".正是這種想法最終使中村與日亞結(jié)下了不解之緣.
但并不是說中村就沒有猶豫過.實際上,中村也曾到總部位于京都的京瓷面試過.盡管通過了嚴(yán)格的考試,順利獲得了進入京瓷的機會,但結(jié)果中村還是放棄了.最后,中村選擇留在了當(dāng)?shù)?也就是妻子娘家的所在地德島市.
日亞是中村的大學(xué)導(dǎo)師介紹的.雖然自己的專業(yè)是電子工程學(xué),但中村希望從事材料開發(fā)工作,因此導(dǎo)師向他推薦了這家公司.不過,當(dāng)中村來到日亞時卻頗感意外.這只是一家員工僅200人的小型化學(xué)公司,到處都有一股刺鼻的硫化氫(H2S)的氣味注3)."這家公司怎么這么臟啊!",這就是日亞給中村留下的第一印象.
注3)硫化氫的氣味類似臭雞蛋味.
"瀕死"的開發(fā)課
進入日亞后,中村被分到了開發(fā)課.進入公司后中村發(fā)現(xiàn),這里的員工全部都是阿南附近的人,像他這樣來自德島的還真少見.而且,中村還是該公司第一個學(xué)電子專業(yè)的員工.中村感覺公司是考慮到他學(xué)的專業(yè)與眾不同,所以才把他分配到可以做新業(yè)務(wù)的開發(fā)部門的.
中村最初負(fù)責(zé)的開發(fā)課題是提煉用于化合物半導(dǎo)體GaP注4)中的金屬Ga材料.雖說是開發(fā)課,但其實只是一名課長帶著兩名開發(fā)人員和幾個助手的小部門.辦公場所是由帶屋頂?shù)耐\噲龈脑斓?只是在四周增加了圍墻,十分簡陋(圖2).
注4)GaP(磷化鎵)是III-V族化合物半導(dǎo)體的一種.屬于能帶為2.3eV的間接遷移型.通過電子-空穴的再結(jié)合可獲得較強的發(fā)光現(xiàn)象(主波長為590nm),因此可用作發(fā)光二極管的材料.但波長580nm~590nm的黃色發(fā)光二極管用材料目前大多使用可獲得高亮度的GaAsP及In-GaAlP等.
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圖2:開發(fā)課原址
現(xiàn)在用于對廢棄物進行化學(xué)處理.氣味仍像當(dāng)年一樣刺鼻.在置物架上,中村曾經(jīng)用過的石英管還放在那里,只是上面布滿了灰塵.
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在開始提煉金屬Ga的幾個月后,營業(yè)部門要求除了金屬Ga之外還要制造有望暢銷的GaP.當(dāng)時開發(fā)課已經(jīng)處于垂死狀態(tài),甚至開始有傳言說"馬上就要撤銷了".在這種情況下,恐怕也只有啟動這一有望形成賺錢的業(yè)務(wù)了.公司隨即指定中村來負(fù)責(zé)開發(fā).當(dāng)時的開發(fā)人員有兩名.一名繼續(xù)負(fù)責(zé)金屬Ga的提煉,而另一名,也就是中村,則開始著手開發(fā)GaP.
表面上聽起來這是"為了開拓新業(yè)務(wù)而進行的開發(fā)課題",但實際情況仍然嚴(yán)峻.因為并沒有預(yù)算.所以無法購買相關(guān)設(shè)備.也買不起昂貴的部件.結(jié)果,只有完全靠自己來制造有關(guān)設(shè)備(圖3).
黃昏時分的"爆炸慣犯"
要使GaP實現(xiàn)結(jié)晶生長,需要使用昂貴的石英管.操作時,將石英管的一端封上,在管的兩端放置金屬Ga和P.然后再封上另一端,對管內(nèi)進行真空處理.之后加熱石英管,內(nèi)部的材料就會氣化,相互反應(yīng)便可形成GaP.最后割開石英管,將反應(yīng)生成物取出就能獲得GaP.
不過,問題是如何處理使用過的石英管.由于石英管價格昂貴,因此不能用完就扔掉.至少在日亞不能這樣做.于是,中村決定將切斷的石英管重新焊接起來,進行再利用.
從那以后中村就開始沒完沒了地焊接石英管."我進入公司難道就是為了當(dāng)一個焊工嗎?",中村不止一次地問自己.而且最頭疼的是爆炸事故頻頻發(fā)生.對封有Ga和P的石英管進行高溫加熱使,管內(nèi)的壓力會上升到20~30個大氣壓.這時,只要焊接部位有小小的損傷或是強度不足的話,石英管就會破裂.
早上將材料封到石英管中.下午開始加熱,當(dāng)溫度達到最高時正好是傍晚.爆炸總是發(fā)生在要下班的時候.巨大的聲響往往傳遍整個公司."又是中村".員工們一邊調(diào)侃著,一邊趕緊回家.
上司不理解
而此時此刻,中村在實驗室里卻正忙著上演一場激烈大戰(zhàn).
逐漸習(xí)慣事故頻發(fā)場面的中村制定出了一套自我保護措施,在自己的桌子與緊靠桌子設(shè)置的GaP制造設(shè)備之間吊起了金屬板.這樣就不用再擔(dān)心爆炸時被飛散的石英片打中了.
不過,石英管一旦爆炸的話,破裂的石英管碎片就會與加熱到高溫的P一起飛射出來.P是也可用作火柴材料的可燃物.當(dāng)然會燃燒.帶著火的碎塊會向四處飛散.所以中村要追上去一個個將火滅掉.事故頻發(fā)程度事后讓中村回想起來都奇怪"竟然平安無事沒有出大事故".
可是長期這樣下去的話,身體可吃不消.懷著這種想法,中村與當(dāng)時的上司談了多次.只要采用對石英管內(nèi)部進行高壓處理的方法,爆炸事故就不會停止.因此中村想改用在低壓也可制造出GaP的方法.但是,公司的想法很頑固:"發(fā)生爆炸是焊接得不好,并非方式的問題",所以沒有接受中村的提案.
即便如此,開發(fā)還是走上了正軌.從1981年開始,中村制造的GaP開始銷售.正是由于付出如此之多的努力,當(dāng)自己制造的產(chǎn)品上市時,中村真是萬分感慨.GaP的制造開發(fā)總算是成功了.不過,GaP的銷售額每月卻只有數(shù)百萬日元.作為一項業(yè)務(wù),并不算是太大的成功.中村在1982年結(jié)束了開發(fā),制造也交接給了后輩.中村從GaP的開發(fā)中完全撤了出來.
從這一開發(fā)過程中,中村學(xué)到的是石英的焊接技術(shù)、面對爆炸也毫不畏懼的勇氣、以及"不能一味服從公司"這一教訓(xùn).
下一個課題是GaAs結(jié)晶生長
從1982年起,中村開始著手與GaAs注5)結(jié)晶生長有關(guān)的研究課題.這次仍然是營業(yè)部門提供的信息:"今后GaAs的增長空間比GaP更大".由于涉及的是新材料,因此新的開發(fā)人員也從其他公司跳槽給挖了過來.中村煥發(fā)精神開始開發(fā)GaAs的多結(jié)晶材料.
注5)在III-V族化合物半導(dǎo)體中,GaAs(砷化鎵)是一種為人所熟知的最普通半導(dǎo)體材料.能帶為1.4eV,屬于直接遷移型.電子遷移率為8800cm2/Vs,空穴遷移率為420cm2/Vs,遠遠高于Si,因此適于用作可高速運行的邏輯電路元等使用的材料.另外,由于可通過電子-空穴的再結(jié)合獲得較強的發(fā)光(主波長為850nm),因此還被廣泛用作發(fā)光二極管及半導(dǎo)體激光器材料.
日亞目前制造的化合物半導(dǎo)體(GaAs,InP)
雖說開發(fā)的材料變了,但公司內(nèi)部的開發(fā)環(huán)境還是一如既往.先要制造設(shè)備,其次是要焊接石英管.中村的焊接技術(shù)當(dāng)時已被公認(rèn)為一把"絕活",在新的開發(fā)中仍然每天都在發(fā)揮作用(圖4).不用說,爆炸事故依舊是頻繁發(fā)生.
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中村展示以往的焊接"絕活"加熱石英棒進行焊接.
即便如此,1983年中村成功開發(fā)出了能夠形成產(chǎn)品的GaAs多結(jié)晶技術(shù).隨后,GaAs單結(jié)晶的開發(fā)也完成了.接著,從1985年起,中村又開始著手研究發(fā)光二極管用GaAlAs注6)膜的結(jié)晶生長.單結(jié)晶的生長方法選擇的是液相生長 注7)方式.當(dāng)然,液相生長的設(shè)備也是中村自己制造的(圖5).
注6)GaAlAs(砷鋁化鎵)是III-V族化合物半導(dǎo)體GaAs和AlAs的混合結(jié)晶.通過改變Ga1-xAlxAs中的x,可使能帶從2.1eV變?yōu)?.4eV.利益于這一特點,GaAlAs被廣泛用于紅色發(fā)光二極管及半導(dǎo)體激光器使用的材料.
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注7)在單結(jié)晶底板上使單結(jié)晶生長被稱為外延生長(EpitaxialGrowth),是制造半導(dǎo)體器件時的重要技術(shù).液相外延(LPE:Liquid PhaseEpitaxy)是其中的一種.這是一種利用經(jīng)由溶劑的物質(zhì)移動來實現(xiàn)生長的方法.當(dāng)利用液相外延技術(shù)使GaAs外延生長時,需要使用Ga等制成的溶劑.在Ga中添加GaAs后加熱至900℃高溫,GaAs就會溶解到Ga中.在GaAs底板上導(dǎo)入該溶劑,只要慢慢降低溫度,即可使溶解率降低,從而在GaAs底板上析出GaAs.通過精細(xì)控制這一溫度下降速度,便可在GaAs上析出單結(jié)晶的GaAs.按照同樣的方法,還可在GaAs底板上使GaAlAs單結(jié)晶薄膜生長.
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當(dāng)時,從研究、制造到質(zhì)量管理、直至銷售,全部是中村一個人擔(dān)當(dāng)?shù)?中村將研制出來的單結(jié)晶推薦給了發(fā)光二極管廠商.但其他競爭公司卻拿出了質(zhì)量更高的單結(jié)晶.于是,中村經(jīng)過反復(fù)研究,最終實現(xiàn)了質(zhì)量毫不遜色的產(chǎn)品.而這時,其他公司在質(zhì)量上又走在了前面.無論怎么追都追不上.而其原因就在于評測速度過慢.
日亞只銷售材料,自己并不制造發(fā)光二極管.因此,在將單結(jié)晶制成發(fā)光二極管后,全部交由用戶進行評測.而這種方式的話,需要花費1個月才能得到評測結(jié)果.這樣,在評測結(jié)果出來后再怎么改進,也無法趕上其他公司的開發(fā)速度.
押寶發(fā)光二極管
"如果不自已制造發(fā)光二極管,即使用戶說不行也無法反駁".中村通過與社長直接談判,最后終于成功地導(dǎo)入了發(fā)光二極的制造設(shè)備和評測設(shè)備.而且單結(jié)晶的制造人員也得到增加,GaAlAs單結(jié)晶的開發(fā)由此步入了正軌.最后,中村順利完成了開發(fā).
對于該研究課題,中村給自己打了100分.從制造裝置開始,一切工作全部都是自己完成的.在未從其他公司引進技術(shù)的情況下,依靠一已之力確立了GaAlAs單結(jié)晶的制造技術(shù).而且還成功地將其變成了一項業(yè)務(wù).
盡管如此,比自己后來公司、接替自己工作的人都一個個升遷,自己卻被拋在人后,殘酷的現(xiàn)實使得中村萌生退意.再呆在日亞已沒有多大意思了.獲得如此大的成功,自己卻并未獲得肯定…….
經(jīng)過反復(fù)思考,中村最后得出的結(jié)論如下:即使開發(fā)取得成功,產(chǎn)品賣得不好的話,自己就不會受到好評.不暢銷就得不到肯定.因此要選擇開發(fā)成功后會形成大業(yè)務(wù)的課題.就這樣,中村選擇了高亮度藍色發(fā)光二極管這項課題.如果研究成功的話,產(chǎn)品肯定會暢銷.
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要想研究藍色發(fā)光二極管,就需要不同于GaAlAs的結(jié)晶生長技術(shù).中村決定先學(xué)習(xí)這一技術(shù).
正當(dāng)中村這樣考慮的時候,求之不得的事情隨之而來.為了掌握結(jié)晶成長技術(shù),愿不愿意被公司派往美國?對此詢問,中村充滿了期待.
這一非常有吸引力的差事其實卻暗藏著一個陷阱.這是當(dāng)時中村萬萬都沒有想到的
為了研究藍色發(fā)光二極管,首先必須掌握發(fā)光層--薄膜的結(jié)晶生長技術(shù).為此,中村遠赴美國學(xué)習(xí),不過在美國則為制造裝置浪費了一年時間.回國后他仍繼續(xù)制造并改造裝置.經(jīng)過長期艱苦的努力,終于取得了初步成果……
1988年3月,中村修二懷著激動的心情登上了飛往美國弗羅里達的航班.他將以研究員的身份在弗羅里達大學(xué)(University ofFlorida)學(xué)習(xí)一年
去美國做訪問研究員的契機,來自中村拜訪在德島大學(xué)求學(xué)時的校友酒井士朗(現(xiàn)德島大學(xué)教授)的交談.要制造藍色發(fā)光二極管,必須從形成用于藍色發(fā)光二極管的單晶膜著手.其技術(shù)包括MBE法(molecularbeam epitaxy,分子束外延)注1)和MOCVD法(metal organic chemical vapordeposition,金屬有機物化學(xué)氣相沉積)注2).中村毫不猶豫地選擇了MOCVD法.原因是MBE裝置的價格高達數(shù)億日元,公司根本不可能考慮購置.
注1)MBE(molecular beamepitaxy)法是在底板上生長出單晶膜的方法,屬于氣相生長法的一種.在對導(dǎo)入高真空中的原子(分子)束進行控制的同時,照射底板,使原子沉積.可稱為高精度真空沉積技術(shù).制造使用硅及GaAs等化合物半導(dǎo)體的元件時,需要使用這種技術(shù).
注2)MOCVD(metal organic chemical vapordeposition)法是在底板上沉積薄膜的CVD(chemical vapordeposition,化學(xué)沉積)法的一種.也稱為OMCVD(organometalCVD)法.CVD法是將含有沉積物質(zhì)的氣體,或者這種氣體與非活性氣體的混合氣體通入加熱后的底板上,使其發(fā)生熱分解、氧化還原及置換等化學(xué)反應(yīng),從而在底板上生成或沉積所需物質(zhì)的方法.其中,原料氣體采用有機金屬(有機物質(zhì)直接與金屬結(jié)合形成的化合物,organometal)的方法稱為MOCVD法.在底板上生長出GaAs等化合物半導(dǎo)體單晶膜時,普遍采用這種技術(shù).
雖然選擇了MOCVD法,但中村卻是第一次接觸這種技術(shù).所以首先需要學(xué)習(xí).他決定向當(dāng)時研究MOCVD法而知名的酒井請教.此時,酒井已決定去弗羅里達大學(xué).他建議中村,"機會難得,一起去吧".這是求之不得的好機會,但不知公司是否會派自己去.
公司肯定不會同意,先向公司申請再說.抱著這種心理,中村決定試一試.于是,他請酒井陪同,向會長和社長說明了自己的想法.出人意料的是,公司當(dāng)場就決定派他去弗羅里達.
又回到以前的狀態(tài)
一切都暢行無阻!讓人覺得順利的恍如夢境.但好景不長,抵達弗羅里達大學(xué)之后的中村感到非常吃驚,這里沒有MOCVD裝置,情況與想象的不同.
中村去的研究室本應(yīng)有2臺MOCVD裝置.其中一臺被隔壁研究室搬走了,而另一臺則需要從現(xiàn)在開始制造.就這樣在美國,中村同樣開始為制造裝置而忙碌起來(圖1).每天忙于配管和焊接,簡直和在日本時沒有什么兩樣.他不禁想,難道自己是為做這些工作千里迢迢來到弗羅里達的嗎?隨之而來的便是倦怠感.時間則毫不理會中村的心情繼續(xù)在無情地流逝.等到中村好不容易完成制造裝置的時,已經(jīng)到了他要回國前的一個月了.
除了中村之外,當(dāng)時研究室還有數(shù)名來自韓國和中國等國家的研究員.中村陪著笑臉央求:我一個月之后必須回日本,時間很緊,裝置能不能讓我優(yōu)先使用.得到的回答卻是No!.中村只進行了3、4次結(jié)晶生長實驗,就要為在美國的學(xué)習(xí)畫上句號了.
連開會也不通知,不知是覺得中村可憐,還是看中了中村出色的焊接和配管技術(shù),研究室的教授挽留他:"我給你發(fā)工資,再待一年吧".但在美國期間,給中村留下的不愉快回憶太多了.
中村去美國之前沒有寫過一篇論文.因為公司不允許.就是因為這個原因,好不容易以研究員的身份去美國,對方卻沒有把他當(dāng)做研究人員對待,連開會都不通知他.該大學(xué)還有研究發(fā)光二極管的人員,但中村想請教問題時,人家愛理不理的.
在美國學(xué)習(xí)期間,中村還第一次體會到了以前只聽說過的"種族障礙".美國人會很自然地和美國人在一起,亞洲人也會和亞洲人形成一個圈子.盡管好不容易獲得了與來自世界各地的研究人員一同工作的機會,相互之間卻沒有交流.
中村回顧在美國學(xué)習(xí)的日子時說道,"沒有一點兒好的回憶".但是回國后等待著他依然是痛苦的日子.他為"回來之后沒有崗位"而苦惱.在美國沒有學(xué)到技術(shù),回來后沒有工作崗位,什么都是沒有,中村只能一切從零開始.
無法實現(xiàn)GaN膜
即便如此,中村還是開始了研究.雖然在職場上中村如同浦島太郎,但派他去美國的社長卻記住了他.公司分配給了中村兩名新員工,開始制造裝置.他決定購買市售的MOCVD裝置,然后進行改造.此外,他還讓公司購買了結(jié)晶膜評測裝置.所有裝置加在一起公司先后花費了數(shù)億日元.
當(dāng)年在開發(fā)GaAs單結(jié)晶時,公司幾乎什么裝置都沒有購買.即便是好說歹說同意出錢了,最多也只有100萬日元左右.突然增加到上億日元的投資,這對中村來說是非常難得的,同時這也形成了一種壓力.
中村從1989年4月回到日本后開始著手進行研究.一個月、兩個月,甚至半年的時間過去了,但研究絲毫沒有取得進展.藍色發(fā)光二極管的發(fā)光層--GaN膜始終無法形成.甚至在還沒有到達形成GaN膜之前就跌跟頭了.
MOCVD法是在經(jīng)過高溫加熱的底板上通入原料氣體,然后使氣體在底板表面分解來形成結(jié)晶薄膜的方法.需要在通入氣體的容器內(nèi)放置底板,對其進行高溫加熱,問題就出在這里.
第一個問題是,中村選擇的是GaN注3)作為藍色發(fā)光二極管的發(fā)光材料.從原理上來說,好幾種材料都能實現(xiàn)藍色發(fā)光功能.其中,GaN是受人冷落的材料注4).只因"其他人沒有采用",中村便決定選擇這種材料.開始挑戰(zhàn)結(jié)晶膜生長之后,他才明白這種材料不受歡迎的原因.那就是GaN成膜非常困難.如果只對市售裝置稍加改造,根本無法實現(xiàn)膜生長.
注3)GaN(氮化鎵)是III-V族化合物半導(dǎo)體的一種.屬于直接遷移型,能隙(EnergyGap)為3.4eV.通過與InN(能隙為2.0eV)及AlN(能隙為6.3eV)形成混合結(jié)晶,可使能隙介于2.0eV到6.3eV之間.
注4)藍色發(fā)光二極管用材料有ZnSe、SiC及GaN等.1989年,SiC面向藍色發(fā)光二極管用途的研究進展最快,已有人制造出亮度較低的發(fā)光二極管.ZnSe的研究也很盛行,作為藍色發(fā)光二極管及藍色半導(dǎo)體激光器用材料的有力候選而備受關(guān)注.而GaN卻很少有人研究,當(dāng)時日本國內(nèi)的學(xué)會也曾出現(xiàn)過ZnSe研討會座無虛席、而GaN研討會的參加者不足10人的情況.
被稱為怪人
為了采用MOCVD法在底板上生長出GaN單晶膜,必須將底板加熱至+1000℃以上的高溫.光實現(xiàn)這一點就非常困難,更糟的是,中村的另一選擇又使情況進一步惡化,那就是采用了用加熱器加熱底板的方法.
很早就開始研究GaN膜的名古屋大學(xué)研究小組注5)采用從裝置外部施加高頻電磁場的方法加熱底板(圖2).中村仍以"不想和別人采用同一方法"為由,選擇了加熱器加熱.
注5)除了日亞化學(xué)工業(yè)以外,其他研究GaN的日本研究小組還包括豐田合成的研究小組,以及名古屋大學(xué)赤?勇教授(當(dāng)時,現(xiàn)任名城大學(xué)教授)的小組等.豐田合成和名古屋大學(xué)的研究小組,1989年已成功生長出GaN單晶膜,1990年初相繼成功試制出了GaN藍色發(fā)光二極管,可以說均比日亞化學(xué)工業(yè)領(lǐng)先一步.
使用高頻電磁場的方法,需在用導(dǎo)體制成的加熱臺(Susceptor,基座)上放置底板,利用從反應(yīng)室外施加的高頻電磁場提高基座的溫度,從而對底板進行加熱(a).無需在反應(yīng)室內(nèi)設(shè)置用于加熱的機構(gòu),因此構(gòu)造比較簡單.但不能采用作為導(dǎo)體的金屬形成反應(yīng)室,一般采用石英玻璃制造反應(yīng)室.而使用加熱器的(b)方法,可在反應(yīng)室內(nèi)放置裝有加熱器的加熱臺,然后在上面放置底板,通過這種方法對底板加熱.采用這種方法時,可自由選擇反應(yīng)室的材料.
制造GaN膜的原料氣體--NH3具有腐蝕性.沒有一種加熱器即耐高溫又耐腐蝕.因此,加熱器很快就會被腐蝕壞,導(dǎo)致薄膜無法生長.
那時候中村每天都很郁悶.早上來到公司,打開裝置.今天有沒有生成真正的膜,加熱器又被燒壞.下午的工作便是改造和修理設(shè)備.他早上第一個上班,下午6點下班.每天都在重復(fù)這種沒有盡頭的單調(diào)日子.
中村的話變得越來越少,電話也不接,周圍的人開始把他當(dāng)成怪人.當(dāng)初部下的兩名新員工,其中一人因"根本看不到成功的希望"而辭職了.
勝利女神曾經(jīng)微笑,但轉(zhuǎn)瞬即逝
事情突然出現(xiàn)了轉(zhuǎn)機.經(jīng)過多次失敗和不斷摸索,中村終于開發(fā)出了不會燒壞的加熱器注6).底板加熱成功后,那么剩下的就只是改造裝置和改進原料氣體的通入方法了.
注6)絕密中的絕密在于如何避免加熱器燒壞.現(xiàn)在仍為不外泄的技術(shù)訣竅.據(jù)介紹,因開發(fā)出了這種加熱器,中村"成了加熱器設(shè)計專家".這與焊接技術(shù)和配管技術(shù)同為中村的特技.
中村對改造裝置有絕對信心.因為進入公司開發(fā)部門以后,所有裝置都是自己制造的,而且在美國的一年里充分掌握了氣體配管技巧.雖然周圍的人都勸他,隨意改造MOCVD裝置很危險,但這并沒有讓中村退縮.以前在公司開發(fā)科時,他就經(jīng)歷過數(shù)次爆炸事故,所以一點都不害怕.
加熱器開發(fā)成功后,用加熱器加熱的方法果真效果不錯.利用高頻率電磁場加熱時,需要用石英玻璃制造MOCVD裝置的反應(yīng)室、室內(nèi)配管及出氣口等.雖然中村的焊接技術(shù)非常高超,但對石英部件構(gòu)成的裝置進行改造并非易事.
但用加熱器加熱的話,反應(yīng)室、配管及出氣口均可用金屬制造.加工比較容易,安裝及拆卸也很方便,改造變得非常輕松
據(jù)中村當(dāng)時的實驗筆記記載,1990年8月底曾嘗試過4種氣體導(dǎo)入方法,9月上旬發(fā)現(xiàn)從底板旁邊和上方導(dǎo)入氣體的Two-Flow法比較有效
1990年9月,終于迎來了GaN膜面世的時刻.中村發(fā)明了可從底板的兩個方向吹入氣體的"Two-Flow法",成功生長出了結(jié)晶薄膜(圖3(b)).他滿懷喜悅地對此次形成的薄膜進行了評測.這種薄膜在此前發(fā)布的薄膜中遷移率最高(圖4).太棒了!終于成功了!中村急忙開始第二批和第三批結(jié)晶膜的生長工作.打算生成更高品質(zhì)的薄膜……
1990年9月,使用Two-Flow法生長出了GaN膜.獲得了當(dāng)時最高的遷移率,比處于領(lǐng)先地位的名古屋大學(xué)的研究小組公布的數(shù)值還高一位數(shù).摘自1990年9月17日的實驗筆記.
但進入10月份以后,不可思議的事情發(fā)生了,GaN膜突然無法生長了.中村急忙檢查裝置,卻沒有發(fā)現(xiàn)任何問題.成功了一次,也確實成膜了,現(xiàn)在卻無法生長,而且原因不明.肯定是哪里出現(xiàn)問題了.
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