經(jīng)典手算法設(shè)計(jì)二級(jí)運(yùn)放
手算法其實(shí)就是根據(jù)設(shè)計(jì)要求,把結(jié)構(gòu)定下來之后運(yùn)用運(yùn)放的一些基礎(chǔ)知識(shí)將MOS管的W/L參數(shù)一一定下來的方法,這個(gè)方法不一定能設(shè)計(jì)出很完美的運(yùn)放,但是對運(yùn)放的深入理解是很有幫助的。
二級(jí)運(yùn)放涉及參數(shù)——這些參數(shù)決定著一個(gè)運(yùn)放的優(yōu)劣,但更重要的是根據(jù)不同的場合來選擇合適的運(yùn)放(參數(shù)定義有不清楚的請自行翻書):
1、增益
增益
2、單位增益帶寬(GB)
單位增益帶寬
3、沉降時(shí)間
穩(wěn)定時(shí)間
4、壓擺率
擺率
5、輸入共模范圍
共模輸入范圍
6、共模抑制比
共模抑制比
7、電源抑制比
電源抑制比
8、輸出電壓擺幅
輸出擺率
9、輸出電阻
輸出阻抗
10、膠印
失調(diào)電壓
11、噪音
噪聲
12、布局區(qū)域
版圖面積
上述參數(shù)只涉及運(yùn)放設(shè)計(jì)的一部分要求,而對運(yùn)放來說,穩(wěn)定性是其最基礎(chǔ)而又最重要的要求。 上述參數(shù)并未涉及到穩(wěn)定性相關(guān)參數(shù),下面對典型二級(jí)運(yùn)放的穩(wěn)定性進(jìn)行一些基礎(chǔ)分析。
上圖為沒有進(jìn)行補(bǔ)償?shù)亩?jí)運(yùn)放示意圖,其中C1、C3為寄生電容,C2為寄生電容+負(fù)載電容。
因此圖中主要存在3個(gè)極點(diǎn)和1個(gè)零點(diǎn),分別羅列在上圖右側(cè),其中p3與z3分別為鏡像極點(diǎn)與鏡像零點(diǎn)(為啥叫鏡像? 估計(jì)因?yàn)槭?a href="http://www.wenjunhu.com/tags/電流/" target="_blank">電流鏡M3、M4柵極節(jié)點(diǎn)上的?),且通常p3、z3遠(yuǎn)大于GB,對運(yùn)放的穩(wěn)定性影響很小; p3、z3相距較近,趨向相互抵消。 剩下的p1’、p2‘兩個(gè)主次極點(diǎn)由于相距相對較近,頻率也不大,因此對運(yùn)放的穩(wěn)定性影響較大。
上圖為補(bǔ)償后的二級(jí)運(yùn)放示意圖,其中Cc為米勒補(bǔ)償電容。
同圖1,p3、z3對運(yùn)放的穩(wěn)定性影響很小,但其主次極點(diǎn)發(fā)生了變化,實(shí)現(xiàn)了極點(diǎn)分裂,分別為上圖右側(cè)的p1與p2,極點(diǎn)的分裂給運(yùn)放的穩(wěn)定性帶來了正面的效果。 在該二級(jí)運(yùn)放中,還引入了右半平面的零點(diǎn)z1,這可能會(huì)給穩(wěn)定性帶來影響。
上述公式中,GB=|p1|×GAIN≈gm1/Cc。
上圖為帶調(diào)零電阻的補(bǔ)償后的二級(jí)運(yùn)放示意圖,其中Rz為調(diào)零電阻,Rz可以使運(yùn)放更加穩(wěn)定。
由圖2可知,零點(diǎn)z1會(huì)給運(yùn)放的穩(wěn)定性帶來影響,而Rz的出現(xiàn),使零點(diǎn)z1發(fā)生了改變。 此時(shí)只需調(diào)整Rz的大小,使1/gm6-Rz=0,零點(diǎn)z1就可以移動(dòng)至無窮大; 也可以將其從右半平面移動(dòng)到左半平面并與p2抵消。 在實(shí)際設(shè)計(jì)時(shí),我們也可以采用上述方法利用Rz來減小對運(yùn)放穩(wěn)定性影響的,如通過仿真得到gm6的值,再取其倒數(shù)估算Rz的大小。
前面給出了同一結(jié)構(gòu)的運(yùn)放在不同補(bǔ)償條件下的零極點(diǎn),下面就來總結(jié)一下什么樣的零極點(diǎn)對運(yùn)放來說才是穩(wěn)定的。
說到零極點(diǎn)與穩(wěn)定性,就能聯(lián)想到波特圖,下面就結(jié)合波特圖直接從結(jié)論推出我們想要的結(jié)論:
1、在波特圖中,每個(gè)零點(diǎn)頻率處,幅值曲線的斜率按+20dB/dec變化,每個(gè)極點(diǎn)頻率處,幅值曲線的斜率按-20dB/dec變化。
2、對一個(gè)ωm的極點(diǎn)(零點(diǎn))頻率,相位約在0.1ωm的地方開始下降(上升),在ωm處經(jīng)歷-45°(+45°)的變化,在大約10ωm處達(dá)到-90°(+90°)的變化。
3、高頻極點(diǎn)和零點(diǎn)對相位的影響可能比對幅值的影響更大。
4、在穩(wěn)定系統(tǒng)中,增益交點(diǎn)(GX)必定發(fā)生在相位交點(diǎn)(PX)之前,增益交點(diǎn)指的是環(huán)路增益的幅值等于1
的頻率,相位交點(diǎn)指的是環(huán)路增益的相位等于-180°的頻率。 GX對應(yīng)頻率與單位增益帶寬相同。
5、GX與PX的間距越大,反饋系統(tǒng)越穩(wěn)定。
6、相位裕度(PM)=180°+∠βH(ω=ω1),其中ω1是GX頻率。 當(dāng)PM≥60°,系統(tǒng)被認(rèn)為是穩(wěn)定的。
由1~6可知:
1、對于一個(gè)單極點(diǎn)系統(tǒng)是無條件穩(wěn)定的,因?yàn)閱蝹€(gè)極點(diǎn)不可能產(chǎn)生大于90°的相移。
2、對于一個(gè)雙極點(diǎn)系統(tǒng),當(dāng)GX對應(yīng)的頻率正好是第二極點(diǎn)時(shí),可以證明此時(shí)的PM=45°。 因此為確保PM≥60°,第二極點(diǎn)必須出現(xiàn)在GX頻率之后(約2.2~3倍GB處)。
3、對于除了主次極點(diǎn)外其他會(huì)影響穩(wěn)定性的零極點(diǎn),我們希望其頻率>10GB。
下面就根據(jù)以上分析,正式進(jìn)入今天的主題:設(shè)計(jì)一個(gè)滿足要求的二級(jí)運(yùn)放。
設(shè)計(jì)案例
設(shè)計(jì)如上圖所示的二級(jí)運(yùn)放,條件如下:
Av>3000V/V,VDD=5V,VSS=0V,GB=5MHz,SR>10V/us,PM=60°,ICMR=1.5~4.5V,
輸出電壓范圍=0.5~4.5V,功率≤2mW,CL=10pF
設(shè)計(jì)步驟:
①首先選擇合適的工藝,假設(shè)該工藝kn=110uA/V2,kp=50uA/V2,VTN=0.55V,VTP=0.85V.
②由60°PM可知:|p2|>2.2GB且|z1|>10GB,因此gm6/CL>2.2gm1/Cc且gm6/Cc>10gm1/Cc,因此gm6>10gm1→1/CL>0.22/Cc→Cc>0.22CL=2.2pF,這里取Cc=3pF。
(3)∵SR=Id5/Cc>10V/us→
Id5>10V/us×3pF=30uA,取I5=30uA。
(4)∵GB=gm1/Cc=5MHz→gm1=15*2π=94.2uS
∵gm=√(2kn *W/L *I) →W/L=2.69≈3
于是可以得到M1、M2管的寬長,取W/L=6um/2um。
⑤∵ICMR_max=4.5V→Vov3_min=VDD-(ICMR_max-VTN)-VTP=5-(4.5-0.55)-0.85=0.2V,若此時(shí)M3仍飽和,則滿足平方律公式,且Id3=15uA,由此可推出M3、M4的寬長比W/L=2Id/(kp*Vov2)=15,
取W/L=30um/2um。
⑥∵ICMR_min=1.5V→若要確保M5進(jìn)入飽和狀態(tài),Vov5_min=Vds5=ICMR_min-(Vov1+VTN)=1.5-(√(2I/(kn*W/L))+0.55)=0.65V,且Id5=30uA,由此可推出M5的寬長比W/L=2Id/(kp*Vov2)=1.29≈1.5,取W/L=3um/2um。
⑦∵gm6>10gm1,取gm6=942uS。 由于穩(wěn)態(tài)時(shí)VGS4=VGS6,且gm=k*W/L*Vov,因此gm6/gm4=(W/L)6/(W/L)4→(W/L)6=gm6/gm4*(W/L)4=942uS/√(2kp *(W/L)4*Id4)*15=94.2,取W/L=188um/2um。
⑧由gm=√(2k *W/L*I)→Id6=94.4uA,因此可得到M7的寬長比(W/L)7=(W/L)5*94.4/30=4.7,取W/L=10um/2um。
⑨∵Vov=2Id/gm=√(2Id/(k*W/L)),∴Vov6=0.2V,Vov7=0.58V,由此可得輸出電壓最大值為5-0.2=4.8V>4.5V,而最小輸出電壓為0.58V>0.5V,不符合最小輸出電壓范圍,此時(shí)可選擇適當(dāng)增大M7管的寬長比。
(10)Av=gm1/(Id5/2*(l2+λ4))gm6/(Id6(λ6+λ7))=7736>3000V/V,因此增益符合要求。
Pdiss=5V*(30+94.4)uA=0.62mW<2mW,因此功耗也符合要求。
以上是對典型二級(jí)運(yùn)放的一個(gè)粗略的設(shè)計(jì),最后可以將計(jì)算出的運(yùn)放尺寸代入仿真模型,通過電路仿真來驗(yàn)證其是否滿設(shè)計(jì)要求,并做最后的優(yōu)化。 在實(shí)際設(shè)計(jì)過程中不難發(fā)現(xiàn),一些與工藝相關(guān)的參數(shù)是不容易找到的,最終還是要通過代入工藝模型來進(jìn)行多次的仿真調(diào)整,才能得到比較可靠的結(jié)果。
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